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        產(chǎn)品名稱:法國一站式微流控SU8模具臺式工作站(法國一站式微流控PDMS芯片復(fù)制加工工作站)-歡迎咨詢
        品牌:
        貨號:
        價格:詢價
        聯(lián)系人:王經(jīng)理
        電話:13466675923

        法國一站式微流控SU8模具臺式工作站


        SU-8光刻臺式工作站涵蓋您在實驗室加工微流體模具所需要的一切組件,即使沒有超凈間,憑借該工作站,您也可以加工出來具有與超凈間相同的分辨率的模具。SU-8模具工作站可以縮短芯片加工的總時間。

        SU-8模具加工站是一個交鑰匙的產(chǎn)品,wu需購買任何其他設(shè)備?;旧蟽H需要一個化學(xué)通風(fēng)廚和少量的工作空間。我們也可以根據(jù)您實驗室內(nèi)現(xiàn)有的設(shè)備來調(diào)整報價。

        優(yōu)勢&特點:

        (1)為易用性設(shè)計,達(dá)到與超凈室相同的圖案分辨率
        (2)易于通過面板或PC進(jìn)行操作編程
        (3)能夠設(shè)置多種加速度和速度的復(fù)雜序列
        (4)wu堵塞,延長使用壽命
        (5)低振動,轉(zhuǎn)速高達(dá)12000 rpm
        (6)提供晶圓對中工具
        (7)即使沒有微流控加工的初
        步知識,也可以熟練的加工模具
         

        包含的工作組件:
        (1)可編程旋涂機(jī)
        (2)可編程數(shù)碼電熱板
        (3)可編程UV燈系統(tǒng)

        包括化學(xué)藥品(SU-8,SU-8顯影液、Omnicoat、異丙醇、丙酮等)和實驗室配件(微量移液槍、計時器、玻璃器皿、封口膜、鑷子、金剛石刮板、硅片、玻璃載玻片、一次性杯子、攪拌棒、手術(shù)刀等),以便為您提供完整的套件。 


        可編程旋涂機(jī):適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

        該旋涂機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊,并且具有可編程功能。
        它適用于直徑?150 mm的晶圓和5” × 5”(127 mm × 127 mm)的基板。
        此旋涂機(jī)經(jīng)過微調(diào),可加工可控和可重復(fù)的SU-8光致抗蝕劑層。

        其緊湊的尺寸和附加的小控制面板使該設(shè)備實現(xiàn)真正的移動。該旋涂機(jī)已廣泛應(yīng)用于SU-8光刻膠涂層。蓋子上的孔可以進(jìn)行動態(tài)SU-8涂覆。通過藍(lán)牙輕松連接到您的PC,您可以保存并命名您的實驗配方。

        主要優(yōu)勢:
        (1)為易用性設(shè)計
        (2)易于通過操作面板或PC進(jìn)行編程
        (3)能夠設(shè)置多種加速度和速度的復(fù)雜序列
        (4)wu堵塞,延長使用壽命
        (5)低振動
        (6)轉(zhuǎn)速高達(dá)12000 rpm
        (7)提供晶圓對中工具


        可編程數(shù)碼電熱板:適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

        確保準(zhǔn)確、均勻且穩(wěn)定的溫度設(shè)定點。該數(shù)字式熱板設(shè)備可設(shè)置溫度斜坡以進(jìn)行加熱和冷卻。通過可編程控件使您的生活更加輕松,這些控件可以實現(xiàn)光刻過程的自動化。

        可編程熱板的頂板和很大的加熱表面積使它具有足夠?qū)挼膮^(qū)域,溫度均勻,可以在4英寸的晶片上有效地烘烤SU-8光刻膠。溫度斜坡使得能夠減小光致抗蝕劑層內(nèi)部的機(jī)械應(yīng)力??删幊坦ぞ呖蛇M(jìn)行長時間的光刻膠烘烤,而wu需停留在設(shè)備的面。

        主要優(yōu)勢:
        (1)加熱和冷卻的溫度斜坡曲線
        (2)4英寸晶圓的高溫均勻性
        (3)微處理器顯示屏保持溫度恒定
        (4)小溫度超調(diào)
        (5)自動計時器
        (6)光滑的鋁板,易于清潔光刻膠


        可編程UV燈系統(tǒng):適用于軟光刻應(yīng)用的設(shè)備

        du特的UV LED曝光和遮罩系統(tǒng)(可選),具有365 nm或者385 nm波長的可用光源。這是一種非常緊湊的臺式系統(tǒng),能夠?qū)χ睆酱鬄?英寸的晶圓表面積進(jìn)行曝光。該自動UV曝光系統(tǒng)與硬(物理)或軟(接近)掩膜觸點兼容,并具有可變的掩膜到基板距離的控制功能。

        該UV曝光系統(tǒng)具有2μm的分辨率,特別適合軟光刻應(yīng)用。閃光曝光可以減少光刻膠的內(nèi)部機(jī)械應(yīng)力。其體積小巧,可將其安裝在所需的任何位置,尤其是在潔凈室之外。

        主要優(yōu)勢:
        (1)晶圓表面上方的wan美單色曝光(帶寬低于10 nm)
        (2)冷紫外線
        (3)光線發(fā)散角<2°
        (4)強(qiáng)大的功率密度
        (5)LED使用壽命長:超過1萬小時,相當(dāng)于8-10年的使用時間
        (6)用戶友好的觸摸屏界面,可進(jìn)行曝光周期編程
        (7)wu需預(yù)熱時間
        (8)直觀的UV光源強(qiáng)度控制
        (9)自動化晶圓加載和卸載系統(tǒng)
        (10)可與玻璃和塑料光罩一起使用
        (11)在4英寸晶圓上具有很高的紫外線均勻度
        (12)集成紫外線儀表


        更多內(nèi)容:
        自動匹配您實驗室現(xiàn)有設(shè)備的報價!
        由于每個實驗室都是不同的,因此,每個研究都是du特的,所以我們會根據(jù)實際需求盡可能地調(diào)整報價。我們與您一起討論什么是效率高的設(shè)備,從而增加或刪除設(shè)備、配件、化學(xué)品等等。


         
        微流控芯片PDMS加工實驗室空間方案圖




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